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半導體污水處理

概述

       隨著電子產品應用領域日益擴大,半導體對我國發展具有重要的意義。半導體涉及行業廣泛,根據生產原料及工序的不同,產生廢水的廢水性質也不同,但都存在著排水量大,污染能力強的特點,嚴重危害生態環境健康的同時也制約其發展。

污水來源及水質特點

       根據半導體生產廢水污染物的特點,可將半導體廢水分為三類,主要來源于生產過程中產生的含氟廢水、有機廢水及金屬離子廢水,詳細介紹如下:

       1、含氟廢水,廢水主要來自于半導體生產工序的刻蝕段,由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑,產生的污染如氟化物、氨氮等濃度較高,廢水一般呈強酸性;

       2、有機廢水,其污染物質主要是一些常規污染物,生產濃度跟生產工藝及操作管理水平關系較大,COD一般在200~3000mg/L;

       金屬離子廢水,半導體廢水中的金屬離子種類眾多,主要如銅、鎳、錫、鉛、銀等,濃度一般在幾十mg/L。

處理難點分析

       高濃度的含氟廢水處理難度大,一般的化學沉淀法難以徹底去除水中的氟離子,在排放要求高的時候,應對其采用多種組合工藝處理。

       半導體有機廢水濃度不會太高,但不同企業的水質變化大,其進水水質需根據化驗監測結果來確定。

       對于不同種類的高濃度金屬離子廢水,應該分開收集進行處理,若廢水中含金屬離子種類較多,工藝流程會較長。

污水處理工藝

       含氟廢水一般采用化學沉淀法,投加鈣鹽與水中的氟離子形成CaF2,再加以混凝劑輔助即可去除水中的氟離子。出水要求高時,可與生化法、吸附法等聯合運用。

       有機廢水一般采用經濟高效的生化法,如單獨的好氧法或與缺氧法、厭氧法組合工藝,對于廢水中COD、氨氮、總氮等常規污染物去除效果非常可觀。

       金屬離子廢水則需針對不同廢水不同種類進行選擇,常用的有化學沉淀法、吸附法、離子交換法等。

       半導體行業生產需水甚多,用水要求不高,一般建議將廢水做回用處理,以節約生產成本。具體可見我司零排放及中水回用單元。

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